活動時間：2022年5月20日（五）-5月31日（二）
主辦單位：訊技光電科技（上海）有限公司（微信公眾號：infotek）；常熟黌論教育咨詢有限公司（微信公眾號：honglun-seminary）
研討會時間：參考各研討會主題的具體時間
授課地點：黌論教育網(wǎng)絡(luò)課堂
講師：訊技光電/黌論教育工程師團隊
費用：免費
報名地點：黌論教育VIP網(wǎng)校官網(wǎng) www.honglun.vip
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本系列研討會共分為七個主題，分別為：
主題一: 光學(xué)薄膜設(shè)計軟件Essential Macleod全功能應(yīng)用介紹研討會
主題二：基于OptiWave的光纖傳感器模擬與分析
主題三：基于VirtualLab Fusion的高速物理光學(xué)建模仿真技術(shù)
主題四：基于JCMsuite軟件微納光子器件仿真設(shè)計與優(yōu)化
主題五：基于TechWiz OLED的光耦出效率優(yōu)化和TechWiz LCD的LCOS設(shè)計
主題六：激光諧振腔腔內(nèi)仿真與設(shè)計
主題七：基于FRED軟件體散射與熱輻射仿真與應(yīng)用技術(shù)
各主題研討會大綱與時間：
主題一：光學(xué)薄膜設(shè)計軟件Essential Macleod全功能應(yīng)用介紹研討會
線上研討會時間：2022年5月20日（星期五） 15：00-17：00
研討會簡介：
Essential Macleod 是一款光學(xué)薄膜設(shè)計與分析軟件，提供了8種優(yōu)化方法實現(xiàn)各種類型的光學(xué)薄膜設(shè)計，也可以對膜層的透射/反射，吸收，顏色，電場分布，應(yīng)力等進(jìn)行分析。
本次研討會主要介紹Macleod附加模塊的應(yīng)用，包括：Runsheet 模塊可以將配置好的鍍膜信息，如監(jiān)控片，監(jiān)控波長等設(shè)置，導(dǎo)入到鍍膜機中進(jìn)行生產(chǎn)鍍制；DWDM Assistant 利用 Thelen 的方法，快速生成一系列的符合要求的窄帶濾光片；Function 模塊利用 Basic 腳本語言，可以擴展軟件的計算能力和應(yīng)用范圍；Simulator 模塊，可以模擬鍍膜過程中的信號噪聲，監(jiān)控信號偏移等影響，也可與Function模塊聯(lián)合使用（比如帶寬監(jiān)控）；Vstack 模塊，可以針對非平行平面進(jìn)行整體透射/反射等的計算，如棱鏡多個面鍍膜的情況。
研討會大綱：
主題二：基于OptiWave的光纖傳感器模擬與分析
線上研討會時間：2022年5月24日（星期二） 15：00-17：00
研討會簡介：
傳感器在科技領(lǐng)域和實際應(yīng)用中占有十分重要的地位，光纖傳感器是一種基于光纖傳感技術(shù)的傳感器，其具有且應(yīng)用廣泛，光纖傳感器具有性價比高，抗干擾好等優(yōu)點。
本次研討會主要利用Optiwave旗下的OptiSystem、OptiGrating、OptiMode等軟件，來模擬和分析各類的光纖傳感器。如FBG/PCF傳感器，PHI-OTDR，光纖陀螺儀等。
研討會大綱：
主題三：基于VirtualLab Fusion的高速物理光學(xué)建模仿真技術(shù)
線上研討會時間：2022年5月25日（星期三） 15：00-17：00
研討會簡介：
現(xiàn)代光學(xué)系統(tǒng)中，元件特征尺寸從納米到毫米甚至米尺寸，如傳統(tǒng)的透鏡、光柵、偏振器件等；在進(jìn)行建模仿真過程中同時需要考慮光學(xué)系統(tǒng)中的各種物理效應(yīng)，如干涉、衍射、相干、矢量、偏振效應(yīng)等。但是物理光學(xué)建模往往因為使用單一的建模技術(shù)，導(dǎo)致計算量過大而無法進(jìn)行有效的仿真和分析。
VirtualLab Fusion是德國LightTrans公司以場追跡概念開發(fā)出來的一款高速物理光學(xué)仿真平臺，軟件基于內(nèi)置的針對不同類型元件的求解器進(jìn)行快速求解，同時會考慮各種物理光學(xué)效應(yīng)。本次研討會結(jié)合干涉測量、光柵衍射成像、偏振、VCSEL光源等方面的案例，展示了如何使用VirtualLab Fusion軟件進(jìn)行高速物理光學(xué)建模仿真。
研討會大綱：
主題四：基于JCMsuite軟件微納光子器件仿真設(shè)計與優(yōu)化
線上研討會時間：2022年5月26日（星期四） 15：00-17：00
研討會簡介：
微納光學(xué)是研究極小空間尺度光場的產(chǎn)生及其與物質(zhì)相互作用新物理與新應(yīng)用的重要平臺。微納光學(xué)的發(fā)展,一方面需要更高速、更低功耗、更高集成度和更高精度,這就要求相關(guān)器件、系統(tǒng)能夠到更小的尺度;另一方面需要更高效率、靈活和準(zhǔn)確的微納仿真技術(shù)進(jìn)行輔助。 |
